本發(fā)明公開一種雙能射線掃描系統(tǒng)、掃描方法以及檢查系統(tǒng)，涉及輻射掃描成像檢測領(lǐng)域。其中的雙能射線掃描系統(tǒng)包括射線源、過濾器；射線源用于發(fā)出高能射線和低能射線；過濾器包括低能濾波部分和低能透過部分；當射線源發(fā)出高能射線時過濾器的低能濾波部分對準射線源的出束方向，使得高能射線的低能部分被過濾掉、高能射線的高能部分透射出來，當射線源發(fā)出低能射線時過濾器的低能透過部分對準射線源的出束方向，使得低能射線透射出來，從而既能提高高能射線的穿透率，又無損低能射線的空間絲分辨能力，同時保障了穿透率指標和空間絲分辨能力指標，使得雙能射線可以充分利用其穿透特性的區(qū)別對被檢物體進行識別，達到安全檢查的目的。

1.一種雙能射線掃描系統(tǒng)，其特征在于，包括射線源、過濾器；其中，所述射線源用于發(fā)
出高能射線和低能射線；所述過濾器包括低能濾波部分和低能透過部分；當所述射線源發(fā)
出高能射線時所述過濾器的所述低能濾波部分對準所述射線源的出束方向，使得高能射線
的低能部分被所述低能濾波部分過濾掉、高能射線的高能部分從所述低能濾波部分中透射
出來，當所述射線源發(fā)出低能射線時所述過濾器的低能透過部分對準所述射線源的出束方
向，使得低能射線從所述低能透過部分透射出來；
所述過濾器的表面圍成一空腔，在所述過濾器的表面上設(shè)置用作低能濾波部分的過濾
片，過濾片之間的間隙部分用作低能透過部分，所述射線源位于空腔內(nèi)所述過濾器的中軸
線上。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述過濾器為中空圓柱體，所述射線源位于
中空圓柱體的中軸線上，在中空圓柱體的表面上平行于中軸線方向設(shè)置所述過濾片。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述過濾器為圓盤狀，用作低能濾波部分的
過濾片設(shè)置為從圓盤的圓心沿半徑方向向外輻射，過濾片之間的間隙部分用作低能透過部
分，圓盤與所述射線源的出束方向空間垂直。
4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述過濾片的尺寸相同且彼此等
距。
5.如權(quán)利要求1-3任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述低能濾波部分由高Z材料構(gòu)成，
所述低能透過部分是空隙或由低Z材料構(gòu)成，其中，Z表示原子序數(shù)。
6.如權(quán)利要求1-3任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述射線源是加速器，所述加速器
包括電子槍和靶，電子槍交替發(fā)出高能電子束和低能電子束，高能電子束轟擊在所述靶上
產(chǎn)生高能射線，低能電子束轟擊在所述靶上產(chǎn)生低能射線。
7.如權(quán)利要求1-3任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述射線源是加速器，所述加速器
包括電子槍和兩種材料的靶，電子槍發(fā)出的電子束交替轟擊在兩種材料的靶上分別產(chǎn)生高
能射線和低能射線。
8.如權(quán)利要求1-3任一項所述的系統(tǒng)，其特征在于，還包括控制裝置，用于同步控制所
述射線源和所述過濾器，使得所述射線源發(fā)出高能射線時所述過濾器的所述低能濾波部分
對準所述射線源的出束方向，所述射線源發(fā)出低能射線時所述過濾器的低能透過部分對準
所述射線源的出束方向。
9.一種雙能射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任一項所述的雙能射線掃描
系統(tǒng)。
10.如權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述雙能射線檢查系統(tǒng)為固定式雙能射線
檢查系統(tǒng)、組合移動式射線檢查系統(tǒng)、或者車載式雙能射線檢查系統(tǒng)。
11.一種雙能射線掃描方法，其特征在于，包括：
射線源發(fā)出高能射線和低能射線；
同步控制所述射線源和過濾器，使得所述射線源發(fā)出高能射線時所述過濾器將所述高
能射線的低能部分過濾掉、所述射線源發(fā)出低能射線時所述過濾器將所述低能射線透射出
去；
所述過濾器的表面圍成一空腔，在所述過濾器的表面上設(shè)置用作低能濾波部分的過濾
片，過濾片之間的間隙部分用作低能透過部分，所述射線源位于空腔內(nèi)所述過濾器的中軸
線上。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述過濾器包括低能濾波部分和低能透過
部分；所述同步控制步驟包括：
當所述射線源發(fā)出高能射線時所述過濾器的所述低能濾波部分對準所述射線源的出
束方向，使得高能射線的低能部分被所述低能濾波部分過濾掉、高能射線的高能部分從所
述低能濾波部分中透射出來，當所述射線源發(fā)出低能射線時所述過濾器的低能透過部分對
準所述射線源的出束方向，使得低能射線從所述低能透過部分透射出來。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于，所述低能濾波部分由高Z材料構(gòu)成，所述低
能透過部分是空隙或由低Z材料構(gòu)成，其中，Z表示原子序數(shù)。